芬兰阿尔托(Aalto)大学的研究人员于2010年11月中旬宣布，开发出一种快速实用的新方法，可应用于太阳能电池，使之制造无反射的自洁表面，可以提高太阳能电池效率。该方法已在《先进材料(AdvancedMaterials)》杂志上发表。

　　此方法涉及采用深度反应离子蚀刻方法，在硅表面制造金字塔形的纳米结构。然后，将硅晶片作为模板来创建弹性印记，将原始的纳米结构复制到宽范围的聚合物上。

　　它不同于光滑的硅表面会反映散乱的光线，纳米结构硅和聚合物表面几乎完全无反射。他们使从空气到基材的折射指数可以平滑地过渡，从而降低了在宽的波长范围内的反射率。

　　这种非反射面是提高太阳能电池效率所需要的。如果聚合物纳米结构涂以低表面能薄膜涂层，他们可获得太阳能电池的又一重要改进，那就是可自清洁。

　　这种制造方法可被放大，并可在工业上被应用于简单的、低成本的制造大面积的纳米结构。